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W6型全譜直讀光譜儀

產(chǎn)品簡介：

全新立式全譜光譜采用標準的設(shè)計和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，采用真空光學(xué)室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源、CCD檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有高的性能、低的檢出限、良好的長期穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一。

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金屬材料領(lǐng)域先進的全譜直讀光譜儀

應(yīng)用領(lǐng)域：

鋼鐵行業(yè)、有色金屬、合金鑄造、機械加工、商檢質(zhì)檢、材料研究

檢測基體：

鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

全新立式全譜光譜采用標準的設(shè)計和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，采用真空光學(xué)室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源、ＣＣＤ檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低的檢出限、良好的長期穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一。

主要技術(shù)參數(shù)：

光學(xué)系統(tǒng)：帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)	檢測時間：依據(jù)樣品類型而定，一般25S左右
焦距：400mm	電極：鎢材噴射電
探測器：高性能CCD陣列	光學(xué)恒溫：34℃± 0.3℃
光源類型：數(shù)字光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）	氬氣要求：99.999％
放電頻率：100-1000Hz	氬氣進口壓力：0.5MPa
放電電流：400A	氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min
工作電源：220VAC 50/60Hz	工作溫度：10℃～35℃
儀器尺寸：6508601200	工作濕度：20％～85％
儀器重量：約235kg（不含真空系統(tǒng)）	分析間隙：真空軟件自動控制、監(jiān)測

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